GWDL-1200ZQLB 真空气氛箱式炉
炬星窑炉研制的这台GWDL-1200ZQLB真空气氛箱式炉，是一款面向半导体、先进陶瓷、粉末冶金等高端材料研究与小批量生产的集成化高温处理设备。
炉膛有效工作尺寸为2000×400×300 mm，采用硅碳棒作为发热元件，布置于炉膛左右两侧，配合K型热电偶（测温范围0-1350℃）进行温度采集。最高使用温度1200℃，常用温度900℃，控温精度±1℃、无超调，恒温精度±5℃，充分满足精密烧结与气氛处理工艺要求。三温区独立控制设计，显著提升长尺寸炉膛的温度均匀性，特别适合批量物料的一致性处理。
双级直接旋片真空泵，真空度覆盖100Pa 至 10⁻¹ Pa，可通入氢气、氮气、氩气、一氧化碳等多种气氛。炉体采用6-20mm厚钢板双面焊接，耐正压0.1MPa。配备正负压双指示表与电接点压力保护系统。一旦压力异常，系统自动关闭进气阀、开启排气阀并发出声光报警，确保人员和设备安全。
风冷+水冷双层降温设计，保障设备在长时间运行时，外壳温度低于45℃，工作环境友好舒适。
支持50段可编程升温曲线，配备RS485通讯接口，可通过计算机实现远程监控、数据记录与历史曲线调用。
炬星窑炉，以专业致敬科研，以集成赋能制造。
